HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。

产品型号：
厂商性质：生产厂家
更新时间：2026-10-16
访问量：24

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

半导体设备

原子层沉积设备ALD 物理气相沉积设备PVD 化学气相沉积设备CVD 外延设备刻蚀设备Etch 光刻设备离子注入设备化学机械抛光设备CMP 退火炉气体测量控制湿法设备WET 长晶炉设备PVT 氧化扩散设备Furnace 移载传送设备Indexer 紫外线固化炉UV Cure 辅助设备查看全部产品

相关文章

HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。设备包含净化工作台、炉体机箱、气源柜、真空系统及电气控制系统五大部分，相关模块齐全，可根据不同客户需求进行配置。

HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统设备特点

• 优异的控温精度

• 优异的颗粒控制能力

• 优异的膜厚均匀性

• 全自动化晶圆与品舟传送

• 晶圆尺寸：4、6、8英寸

• 适用领域：功率半导体、晶圆制造、微机电系统

• 适用工艺：多晶硅、多晶硅掺杂、氮化硅、低应力氮化硅、TEOS、SIPOS、低温等

• 适用材料：硅、碳化硅等

上一篇：EPEE系列等离子化学气相沉积系统
下一篇：Cygnus Optima Prime 介质薄膜化学沉积系统

HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：