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Cassification
MLA 300 无掩膜光刻系统专为大批量生产而设计，在工业光刻领域具有优异的灵活性和精确性。它支持最大 300 x 300 毫米的晶圆，能动态适应表面变化，无需昂贵而耗时的掩膜生产。
NanoFrazor 纳米制造光刻系统是一款开创性的商业化热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在推动各类应用领域中的前沿研究与创新。无论是探索量子器件、一维/二维材料、量子点，还是纳米尺度器件阵列，NanoFrazor 都能提供出色的精度与多功能性。其能力还可扩展至更复杂的挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动的化学反应或物理相变实现的局部材料改性。
VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统是一款高性能直写光刻系统，旨在将创新周期从数周缩短至数小时。VPG 300 DI 结合了传统 i-line 步进器的精度和无掩模工作流程的*优势，使研究人员和工程师能够以优异的速度和灵活性，直接在最大 300 毫米的晶片上绘制高分辨率微结构图案。
MLA 150 无掩模光刻系统采用快速、灵活、易于使用的解决方案取代了传统技术，具有最高的性能。通过使用数字镜像设备（DMD）作为动态掩模，MLA 150 克服了物理光掩模的缺点。从数字设计美图案化的基底只需几分钟，使您的用户能够加速量子器件、微机电系统、微光学和生命科学等领域的研究。
µMLA 无掩模光刻系统是一款基于稳健的 µPG 平台打造的先进桌面式无掩模光刻系统，它非常适合作为研发和快速原型制作的入门级工具，能够在多种应用中实现高精度微结构加工，包括微流控（如细胞分选器件、芯片实验室）、小规模掩模制作、微光学与微透镜阵列、传感器制造、MEMS，以及二维材料和扇出电极的图案化。
MA300 Gen3 掩模光刻机是 SUSS 用于 200 mm 和 300 mm 晶圆的旗舰掩模对准机。它专为先进封装而设计，将亚微米对准与灵活的顶部、底部和红外对准选项相结合。从 TSV 到 RDL 和凸点工艺，它都能提供高精度和吞吐量，处理超出步进能力的厚光刻胶应用。
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