NanoFrazor 纳米制造光刻系统是一款开创性的商业化热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在推动各类应用领域中的前沿研究与创新。无论是探索量子器件、一维/二维材料、量子点，还是纳米尺度器件阵列，NanoFrazor 都能提供出色的精度与多功能性。其能力还可扩展至更复杂的挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动的化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

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更新时间：2026-04-29
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NanoFrazor 纳米制造光刻系统是一款开创性的商业化热扫描探针光刻（t-SPL）系统，旨在推动各类应用领域中的前沿研究与创新。无论是探索量子器件、一维/二维材料、量子点，还是纳米尺度器件阵列，NanoFrazor 都能提供出色的精度与多功能性。其能力还可扩展至更复杂的挑战，包括灰度光子学、纳米流体结构、用于细胞生长的仿生基底，以及通过热驱动的化学反应或物理相变实现的局部材料改性。

NanoFrazor 纳米制造光刻系统主要功能

高分辨率纳米图案化：NanoFrazor 的核心是一种超锋利且可加热的探针，可实现复杂纳米结构的同步写入与检测。通过闭环光刻（CLL）功能实现自校正图案化。这一创新设计为构建精细复杂的图案与结构提供了出色的精度。

直接激光升华（DLS）模块：DLS 模块通过在同一抗蚀剂层中以单一步骤高效写入纳米和微米结构，简化了制备过程。这一集成设计优化了工作流程并提升了生产效率。

带无标记套刻的原位成像：NanoFrazor 的原位成像技术实现了无标记套刻以及已写入图案与目标图案的实时对比。这一独特的闭环光刻（CLL）功能可确保优于 2 nm 的垂直精度，用于构建复杂的 2.5D（灰度）结构，并允许在写入过程中即时调整参数。

十探针并行写入：Decapede 功能支持使用 10 个可加热探针进行并行写入，在保持 NanoFrazor 著名精度的同时显著提高通量。该功能非常适合大面积图案化及对时间敏感的应用。

模块化与可升级设计：NanoFrazor 的模块化平台允许广泛定制，以满足特定研究需求和实验室环境。图案化模式、机壳选项及软件模块均可灵活调整，实现优异的功能性与灵活性。随着研究的发展，NanoFrazor 可通过添加额外模块进行升级，确保长期适应性。

全面工艺支持：凭借 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超过 20 年的研发经验，NanoFrazor 用户社区持续受益于硬件与软件的不断进步。用户可获取涵盖刻蚀、剥离等图案转移工艺的完整最佳实践与操作规范库，从而确保各类应用的最佳效果。

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