VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统是一款高性能直写光刻系统，旨在将创新周期从数周缩短至数小时。VPG 300 DI 结合了传统 i-line 步进器的精度和无掩模工作流程的*优势，使研究人员和工程师能够以优异的速度和灵活性，直接在最大 300 毫米的晶片上绘制高分辨率微结构图案。

Name: VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统
Brand: STELLA/海德堡仪器
Availability: InStock

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

相关文章

详细介绍

VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统是一款高性能直写光刻系统，旨在将创新周期从数周缩短至数小时。VPG 300 DI 结合了传统 i-line 步进器的精度和无掩模工作流程的*优势，使研究人员和工程师能够以优异的速度和灵活性，直接在最大 300 毫米的晶片上绘制高分辨率微结构图案。

VPG 300 DI 无掩模投影光刻系统特点

曝光速度

可在 9 分钟内写入 100 x 100平方毫米的区域

曝光质量

边缘粗糙度 < 40 nm，CD 均匀度 < 50 nm，分辨率 < 500 nm

校准精度

第 2层对齐（顶部）低至 100 nm，背面 VIS / IR ±1 µm

自动对齐

自动全局和局部对准，并进行畸变校正；VIS 背面对准；埋入式结构的红外对准

自动对焦

带动态补偿的光学或气动自动对焦 > 160 µm

包括计量功能

位置、CD 和边缘粗糙度

写作的稳定性

集成环境计量、流量箱和软件修正功能，以补偿环境变化

产品咨询