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Cassification
UVC Series紫外线固化炉外形紧凑，能对应G4.5～G10.5范围内的Panel规格，设备提供的UV照射光强充足均匀，能准确量化监控，并实现光路照度调节闭环控制，设备自动化程度高、可靠性高、固化效果良好，主要表现在搬运、对位精度高、节拍时间短、光照能量稳定。
CVI Series装载卸载设备是连接工艺设备（EQ）和智能化物流仓储系统（STK），使设备工艺制程顺利完成的系统。Indexer由Port和Fence两部分组成，Port部分的功能是存放装有Glass的卡匣，Fence部分的功能是为Robot提供安全的作业空间。
Hesper TO230R 单片减压湿法氧化扩散系统适用于集成电路、功率半导体、衬底材料、科研等领域，单腔或多腔多种设计，可满足不同客户需求，低拥有成本和低运营成本。
THEORIS A302 12英寸立式低温退火炉在中低温条件下，通入N₂、H₂或D₂等气体，以消除硅片界面处金属及非金属晶格缺陷和晶格损伤，优化硅片界面质量，提升器件良率。该系统具备高精度的温度控制系统、良好的金属控制能力、高稳定的传输系统以及安全的特气处理装置，兼顾了良好的工艺指标、高产能和安全可靠性。
Booster SWA单片退火系统主要用于12英寸后段金属互联退火工艺。该机台为多腔集群设备，能够进行全自动并行工艺处理。系统主要由传输模块和3个工艺模块组成，其中工艺模块主要用于Post Etch和Post Cu CMP退火工艺，通过去除Low-K材料吸附的水汽以恢复K值，传输模块用于将晶圆安全而准确地送达到指定工位。
AGF Series电阻式SiC长晶炉适用于6/8英寸导电和高纯半绝缘型SiC晶体生长，多加热器设计允许灵活的工艺和热场设置，下装载结构可实现便捷的开装炉及维护操作，同时设备拥有高精度控温、控压能力，工艺性能稳定优良。
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