MiniLab 026 PVD物理气相沉积系统是紧凑型落地式真空蒸发器，配备易于取用的“蛤壳"腔室。适用于金属、介质和有机物的蒸发或溅射沉积技术。

Name: MiniLab 026 PVD物理气相沉积系统
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Availability: InStock

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MiniLab 026 PVD物理气相沉积系统是紧凑型落地式真空蒸发器，配备易于取用的“蛤壳"腔室。适用于金属、介质和有机物的蒸发或溅射沉积技术。

MiniLab 026 PVD物理气相沉积系统紧凑型，兼容手套箱，并优化用于磁控管溅射或热蒸发技术，适用于直径不超过6英寸的基板。

技术包括热蒸发源和低温蒸发源（针对金属和有机物），或磁控管溅射源（针对金属和无机物）。沉积源通常安装在腔体底板上。基材阶段由屋顶支撑，可容纳直径最高达6英寸的基底尺寸。支持基底加热、旋转和Z位移。MiniLab 026 还兼容手套箱，是 MiniLab 系列中可以轻松改装到现有手套箱上的系统。

主要特征

模块化设计

“蛤壳"腔室

涡轮分子泵送系统

基础压力<5×10-7毫巴

直径可达6英寸的基材

最多3个源

触摸屏HMI/PC用于系统控制

配备便于维护的设备

全面的安全功能与联锁装置

无尘室兼容

经过验证的性能

手套箱兼容

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