MiniLab 080 PVD物理气相沉积系统提供高密度腔体，非常适合热、LTE和电子束蒸发技术，需要更长的工作距离以实现最佳均匀性。

Name: MiniLab 080 PVD物理气相沉积系统
Brand: 其他品牌
Availability: InStock

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

相关文章

详细介绍

MiniLab 080 PVD物理气相沉积系统提供高密度腔体，非常适合热、LTE和电子束蒸发技术，需要更长的工作距离以实现最佳均匀性。

MiniLab 080 PVD物理气相沉积系统提供高型腔室，非常适合热、LTE和电子束蒸发技术，需要更长的工作距离以实现最佳均匀性。

这些工具非常适合需要长工作距离以实现最佳均匀性的蒸发技术，且蒸发入射角接近90°，从而实现升空应用的最佳效果。然而，除了热成像、LTE和电子束蒸发外，这些工具还可以安装磁控管溅射（通常作为多技术系统）。

基底阶段通常位于腔室顶部，可容纳直径可达11英寸的基底尺寸。支持基底加热、旋转、偏置和Z位移，以及行星级和源基底遮挡。配置范围从手动作的热蒸发系统到具备全自动过程控制的多技术工具。

主要特征

模块化设计

前置加载D形真空室

涡轮分子与低温泵系统

基础压力<5×10-7毫巴

金属、介电体与有机物沉积

直径可达11英寸的基材

最多6个来源

触摸屏HMI/PC用于系统控制

配备便于维护的设备

全面的安全功能与联锁装置

无尘室兼容

可用的装载锁

产品咨询