nano PVD-S10A物理气相沉积系统是一款台式系统，优化用于金属和绝缘材料的射频和直流磁控管溅射。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备先进硬件以实现研究级效果。

Name: nano PVD-S10A物理气相沉积系统
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nano PVD-S10A物理气相沉积系统是一款台式系统，优化用于金属和绝缘材料的射频和直流磁控管溅射。体积紧凑如电子显微镜涂层机，但配备先进硬件以实现研究级效果。

nano PVD-S10A物理气相沉积系统针对直径最大4英寸的基板进行磁控管溅射优化。兼容直流和/或射频电源，用于沉积金属或绝缘材料（如氧化物或氮化物）。

磁控管（最多可装配3个）采用水冷方式，实现高功率和持续运行，尺寸适合安装行业标准靶标。机组配备了涡轮分子泵送系统，实现低污染运行。可以共沉积，同时也可通过气体/压力控制模块实现反应性溅射，该模块可支持最多3种工艺气体。

舱室通过一个带铰链的盖子进入，打开后露出一个适合放置直径不超过4英寸基底的舞台。

这些设备通过触摸屏界面易于控制，维护简便，运行成本低，并配备了全面的安全配置。

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