TALD热原子层沉积系统专为大面积钙钛矿电池薄膜沉积和工艺开发设计，具备优异的温度均匀性与沉积一致性，支持多种功能薄膜层的高质量制备，满足钙钛矿电池界面层、传输层与封装层等多层次沉积需求，助力高效稳定器件的工业化生产。

Name: TALD热原子层沉积系统
Brand: 其他品牌
Availability: InStock

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

相关文章

详细介绍

TALD热原子层沉积系统专为大面积钙钛矿电池薄膜沉积和工艺开发设计，具备优异的温度均匀性与沉积一致性，支持多种功能薄膜层的高质量制备，满足钙钛矿电池界面层、传输层与封装层等多层次沉积需求，助力高效稳定器件的工业化生产。

TALD热原子层沉积系统产品优势

• 大面积一致沉积：覆盖300X400mm基片

• 精准温控系统：室温至300℃范围，温度均匀性≤±1℃

• 面向钙钛矿电池应用：兼容界面层、传输层与封装层等沉积

• 多通道配置：3路前驱体源管线，2路气体管线，可扩展

• 复杂衬底兼容：支持玻璃、陶瓷、FTO及3D复杂衬底

• 高品质薄膜制备：使用与SnO2、NiO、TiO2等薄膜沉积

产品咨询