TALD桌面型原子层沉积系统是一款紧凑型热ALD平台，适用于实验室与研发空间使用。设备支持碎片及2-6英寸晶圆，满足多种基体与工艺需求，可用于氧化物等薄膜的工艺开发。腔体体积小、前驱体利用率高，支持配方编辑、自动循环、数据记录、报警提示及安全联锁，为科研与工艺验证提供稳定、高效的沉积解决方案。

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更新时间：2026-10-19
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TALD桌面型原子层沉积系统产品优势

• 紧凑型桌面结构：占地面积小，适合实验室与研发空间使用

• 最大支持6英寸晶圆：兼容碎片、2-6英寸晶圆

• 热ALD沉积平台：适用于多种氧化物薄膜工艺开发

• 自动化工艺控制：支持配方编辑、自动循环、数据记录