TriboLab CMP化学机械抛光系统用其前身产品（Bruker CP-4）超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界突出的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。

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更新时间：2026-03-25
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TriboLab CMP化学机械抛光系统利用其前身产品（Bruker CP-4）超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界突出的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP化学机械抛光系统能够提供广泛的抛光压力（0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。

布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。

重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机

提供优异的测量可重复性和细节检测

允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本