MBE 6000分子束外延系统是全球每个成功的大批量商家或内部 epi 操作的核心。它是高通量和可重复性的MBE基准。活动时间通常超过一年，这证明了反应堆的稳定性和可靠性。没有比Riber的新客户和长期客户重复下订单更有力的认可了。有许多晶圆厂配备了 2 – 8 个 MBE 6000,24 / 7 并排运行。最初，系统主要用于制造大量微波器件材料。

Name: MBE 6000分子束外延系统
Brand: RIBER
Availability: InStock

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MBE 6000分子束外延系统技术参数和特点：

衬底尺寸：3 英寸、4 英寸、6 英寸、200 毫米

外延生长：可实现原子的表面平整度且界面陡峭的超薄层沉积，以及合金组分或掺杂原子纵向浓度梯度可调等。

真空系统：提供高真空环境，减少杂质和污染，保证晶体沉积的纯度和质量。

温度控制：生长温度低，有效避免界面原子的互扩散。

MBE 6000分子束外延系统的应用非常广泛，主要包括以下几个方面：

半导体器件：如晶体管、二管、激光器等。

光电子器件：如太阳能电池、LED、光电探测器等。

量子点：使用“量子点"，这是使用MBE创建和控制的中等体积的纯半导体合金。

超导金属：超导金属可以具有超精确的尺寸（原子尺度），电子在其中不受干扰地流动。

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