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Cassification
Universal-H300 CMP化学机械抛光系统是华海清科面向行业前沿需求,开发的一款集优良抛光工艺、高效率、高稳定性于一体的12英寸CMP装备。
Universal-S300 CMP化学机械抛光系统是面向行业前沿需求,开发的一款集优良抛光工艺、高效率、高稳定性于一体的12英寸CMP装备。
TriboLab CMP化学机械抛光系统用其前身产品 (Bruker CP-4) 超过 20 年的 CMP 领域专业知识,为业界突出的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。