UV Litho-ACA Master无掩模光刻系统是科研版的无掩模版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩模光刻，优异的灵活性使其成为科学研究的选择。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了有力的支持，助力科学研究领域的发展和创新。

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更新时间：2026-05-09
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UV Litho-ACA Master无掩模光刻系统是一款高精度、高效率的光刻设备，其主要亮点如下：

1. 特征尺寸0.4μm：ACA Master无掩膜光刻机采用了先进的曝光技术，实现了0.4μm的超高精度特征尺寸，为半导体、MEMS、生物芯片等领域的研究和生产提供了有力的支持。

2. 6英寸光刻面积：该设备支持6英寸晶圆的全面积光刻，适用于多种尺寸和形状的基板，具有较高的通用性。

3. 扫描光刻/步进光刻可切换：ACA Master无掩膜光刻机具备扫描光刻和步进光刻两种模式，可根据实际需求进行切换。扫描光刻模式适用于大面积、高效率的生产；步进光刻模式则适用于小面积、高精度的研究。

4. 无掩膜光刻技术：与传统光刻机相比，ACA Master无掩膜光刻机摒弃了掩膜板，直接在基板上进行曝光。无掩膜光刻技术省去了掩膜板制作环节，降低了生产成本，缩短了研发周期。无掩膜光刻机可根据设计图案实时调整曝光参数，实现快速迭代和优化。无掩膜光刻技术可实现任意形状的图案曝光，适用于复杂结构的研究和生产。

ACA Master无掩膜光刻机采用模块化设计，集成了曝光、对位、检测等多个功能，占地面积小，操作简便。设备具备自动化控制系统，可实现对曝光参数、对位精度等关键指标的实时监控和调整，降低人工干预，提高生产效率。ACA Master无掩膜光刻机支持多种类型的基板和光刻胶，适用于不同领域的研究和生产需求。设备采用节能型光源和优化设计，降低了能耗，减少了对环境的影响。

ACA Master无掩膜光刻机凭借其优异的性能和广泛的应用前景，为我国半导体、MEMS、生物芯片等领域的发展提供了有力支持。

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