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PlasmaPro 800 PECVD化学气相沉积系统为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积 （PECVD） 工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统。可实现大型晶圆大规模的批量生产和 300mm 晶圆处理。
PlasmaPro 80 PECVD化学气相沉积系统是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。
nano CVD-8G化学气相沉积系统是一种石墨烯CVD系统，能够精确控制压力、温度和气体化学等条件，这对成功生产石墨烯至关重要。
SIPAR ICP化学气相沉积系统开发并设计适用于多种沉积模式和工艺，采用灵活的系统架构。该工具包括ICP等离子体源PTSA、一个动态温控基板电极和一个全部控制的真空系统。
Depolab 200 PECVD 开放盖化学气相沉积系统具有坚固的设计、可靠性和灵活的软硬件。该系统开发了多种工艺，例如高品质氮化硅和氧化硅层沉积。该系统包括带燃气箱的反应器单元、控制电子设备、计算机、倒车泵和主连接箱。
SI 500 D ICPECVD化学气相沉积系统代表了感应耦合等离子体（ICP）处理在研究和工业领域的前沿地位，用于等离子体增强化学气相沉积，涵盖介电薄膜、非硅、硅化及其他材料。
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