
产品分类
Cassification
详细介绍
WE3102系列12英寸槽式清洗设备主要用于集成电路、新兴应用等领域12英寸清洗工艺。采用模块化、标准化设计,满足客户多种工艺应用需求;集成多功能药液槽,刻蚀速率控制精准;应用先进的低压干燥技术,实现良好的干燥效果。
WE3102系列12英寸槽式清洗设备特点
• 可配备iCB多药液工艺槽,支持 DN unit, DIO3 等附属功能
• 软件量身定制,具备快速更新能力
• 较高的温度控制稳定性
• 超高的补水精度
• 精准的蚀刻速率控制
• 优秀的干燥效果
产品应用
• 晶圆尺寸:12英寸
• 适用材料:光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物
• 适用工艺:炉前清洗、刻蚀 / 抛光后清洗、光阻去除、金属氧化物去除、氮化物去除等
• 适用领域:集成电路、新兴应用
产品咨询