AP300 CMP化学机械抛光系统是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及优良制程开发公司提供了一套研究级别的设备，可兼容4寸，6寸，8寸,12寸样品。

Name: AP300 CMP化学机械抛光系统
Brand: CTS
Availability: InStock

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

相关文章

详细介绍

产品简介

AP300 CMP化学机械抛光系统是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及优良制程开发公司提供了一套研究级别的设备，可兼容4寸，6寸，8寸,12寸样品。

AP300 CMP化学机械抛光系统产品主要特色

- CMP抛光头：采用气囊加载模式，5区压力独立控制，可得到良好的工业级抛光效果；

- 自动上下片，自动抛光，干进湿出；

- 抛光垫修整器：摆臂式设计，由13个传感器分别控制13个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；

- 抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；

- 工艺数据可实时监测；

应用案例

- CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等

- 工艺开发可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发

产品咨询