nano ANNEAL 真空退火系统针对二维材料和晶圆在受控气氛下的热处理进行了优化。基材面朝上支撑在舞台顶板上，平台中央置于一个不锈钢高真空腔体内，舱内配备适当的隔热层和百叶窗视窗。加热通过位于盘子下方的热源进行。根据所使用的加热技术，最高温度可达1000°C

Name: nano ANNEAL 真空退火系统
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nano ANNEAL 真空退火系统针对二维材料和晶圆在受控气氛下的热处理进行了优化。基材面朝上支撑在舞台顶板上，平台中央置于一个不锈钢高真空腔体内，舱内配备适当的隔热层和百叶窗视窗。加热通过位于盘子下方的热源进行。根据所使用的加热技术，最高温度可达1000°C：

石英灯：该技术利用石英灯产生红外辐射。这是一种经济高效的加热方式，适用于基底温度可达600°C，并且兼容大多数大气环境。最大爬坡为0.3°C/s。

碳碳复合材料（CCC）：当需要基底温度超过500°C时，存在不兼容氧气的大气时会使用CCC元素。

适合加热至1000°C。最大爬坡为8°C/s。

硅酸涂层石墨：当需要高温和耐氧时，石墨元素会被涂覆一层阻抗硅酸酯层。

最大爬坡为8°C/s。加热控制分辨率为±1°C。

在受控气氛下退火时，nano ANNEAL 真空退火系统可配备最多3个质量流量控制器（MFC）。典型气体包括Ar、O2和N2，全量度流量具有灵活性。所有系统均配备宽范围仪表，但为提高精度，也提供电容压力计。如果腔室压力至关重要，还提供自动压力控制，控制分辨率可达0.1毫巴。

ANEAL系统高度模块化，可配置用于广泛的应用。

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