HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。设备包含净化工作台、炉体机箱、气源柜、真空系统及电气控制系统五大部分，相关模块齐全，可根据不同客户需求进行配置。

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更新时间：2026-01-13
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HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统包含净化工作台、炉体机箱、气源柜、真空系统及电气控制系统五大部分，相关模块齐全，可根据不同客户需求进行配置。

设备主要特点

•工艺组合灵活性强：能够根据客户的产线工艺规划、生产需求等，灵活配置多工艺组合的机台，适配不同的薄膜沉积场景，满足多样化的生产需求；

运行可靠性与稳定性佳：在长期连续运行过程中，设备能够保持工艺参数的一致性，减少因设备波动导致的工艺偏差，降低故障停机对产线的影响，保障生产的连续性；

•安全性能合规：设备整体及所使用的各类元件，均符合国家相关标准与国际通用标准，从设计、选型到生产组装，均遵循严格的安全规范，降低生产过程中的安全风险；

•具备 MES 系统解决方案能力：可为客户提供成熟的 MES（制造执行系统）解决方案，该方案能够整合设备运行数据、工艺数据、生产进度数据等，助力产线实现智能化管理、高效调度与数据追溯；

•工艺技术支持完善：在设备投入使用后，能够为客户提供专业的工艺技术支持，包括工艺参数优化建议、操作流程指导、常见工艺问题解决等，帮助客户更好地发挥设备效能，提升生产质量。

产品具体应用范围

•晶圆尺寸适配：可处理 4 英寸、6 英寸、8 英寸三种常见规格的晶圆，能够满足不同规模半导体产线的晶圆处理需求，无论是中小型产线还是实验性生产线，均能适配；

•适用材料覆盖：兼容硅、碳化硅、硅基氮化镓等多种半导体材料，这些材料是制造不同类型半导体器件（如功率器件、射频器件等）的核心基材，设备的材料兼容性拓展了其应用场景；

•适用工艺类型：支持氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、PSG（磷硅玻璃）、BPSG（硼磷硅玻璃）等多种薄膜淀积工艺，这些工艺分别对应半导体器件不同结构层（如绝缘层、导电层、钝化层等）的制备，可满足器件制造的多环节需求；

•应用领域广泛：不仅适用于化合物半导体领域、衬底材料领域的工业化生产，还能满足科研领域的实验研究需求，为科研机构开展半导体材料与器件相关的工艺探索提供设备支持。

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