Ionfab 300 IBE离子束刻蚀设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

Name: Ionfab 300 IBE离子束刻蚀设备
Brand: OXFORD/英国牛津
Availability: InStock

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Ionfab 300 IBE离子束刻蚀设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

多模式功能

能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成

单晶圆传送模式或集群式晶圆操作

双束流配置

更低的表面薄膜粗糙度

更佳的批次均匀性和工艺重复性

准确终点监测 —— SIMS，发射光谱

Ionfab 300 IBE离子束刻蚀设备特点：

质量薄膜高 ——超低污染

产量高，紧凑的系统体积设计 ——运行成本低

高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制

配置灵活 ——适于优良的研究应用

灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式

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