PlasmaPro 100 Polaris ICP等离子刻蚀设备为得到更为优秀的刻蚀效果提供了智能解决方案，凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。

Name: PlasmaPro 100 Polaris ICP等离子刻蚀设备
Brand: OXFORD/英国牛津
Availability: InStock

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Cassification

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凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。

PlasmaPro 100 Polaris ICP等离子刻蚀设备为得到更为优秀的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。

高效的刻蚀速率

低购置成本

专为腐蚀性的化学成分而设计

出色的刻蚀均匀性

适用于蓝宝石的静电压盘技术

蓝宝石和硅上的GaN

高导通抽气系统

可与其它PlasmaPro系统集成

PlasmaPro 100 Polaris ICP等离子刻蚀设备为得到更为优秀的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。

主动冷却电极 - 在刻蚀过程中保持样品温度

高功率ICP源 - 产生高密度等离子体

可靠的硬件且易于维护 - 可保持长时间正常运转

磁场垫环 - 增强离子的控制和均匀性

静电压盘技术 - 适用于蓝宝石，以及蓝宝石和硅基的GaN

加热的腔室内衬 - 优化以减少腔壁沉积

优良的自动匹配单元（AMU） - 提供快速，高效和准确的匹配，确保工艺的高度精准重复性

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