专注科研设备
可信赖的服务与解决方案顾问18988909872
产品分类
Cassification
详细介绍
IMX-3500离子注入设备最大能量为200kV，可处理Φ200mm的晶圆，非常适合大学等机构的研发工作。
特长
除B、P、As等气体离子源外，还有操作安全，便于处理的固体蒸发源。
HV终端部分采用与量产设备相同的结构，确保了高可靠性。
最大晶圆尺寸为Φ200mm，且载盘可兼容不规则基板。
用途
从研发到小批量生产
MEMS
IMX-3500离子注入设备规格
| Model | IMX-3500 |
| 基板尺寸 | 最大φ150（φ200，也支持不规则基板） |
| 能量 | 30~200keV (可选3~200keV) |
| 最大离子束电流 | 11B+ 400μA（200keV) |
| 31P+ 600μA（200keV) | |
| 离子种类 | B、P、As、Si、Ge、Sb、In等 |
产品咨询
欢迎来到
相关文章
联系人：李先生
地址：海珠区新港西路135号628栋A座13F
邮箱：support@huazhaotech.cn
座机：18988909872
