MBE-1000 cluster 分子束外延系统，可进行5×3''，4×4''，单片6'', 单片8''衬底外延生长。该系统可实现全自动传样和生长，非常适用于器件的批量生产。生长室采用双温区衬底加热，实现生长温度均匀可控。MBE-1000系统可定制10个蒸发源端口或12个蒸发源端口。

产品型号：
厂商性质：经销商
更新时间：2026-03-03
访问量：39

产品咨询联系我们

产品分类

Cassification

半导体设备

原子层沉积设备ALD 物理气相沉积设备PVD 化学气相沉积设备CVD 外延设备刻蚀设备Etch 光刻设备离子注入设备化学机械抛光设备CMP 退火炉气体测量控制湿法设备WET 长晶炉设备PVT 氧化扩散设备Furnace 移载传送设备Indexer 紫外线固化炉UV Cure 辅助设备查看全部产品

相关文章

MBE-1000 cluster 分子束外延系统，可进行5×3''，4×4''，单片6'', 单片8''衬底外延生长。该系统可实现全自动传样和生长，非常适用于器件的批量生产。生长室采用双温区衬底加热，实现生长温度均匀可控。MBE-1000系统可定制10个蒸发源端口或12个蒸发源端口。

MBE-1000 cluster 分子束外延系统全自动传样系统将不同腔体集成在圆形传样腔上，采用360°连续旋转的重载机械臂组件可进行10英寸衬底托盘在进样室，预处理室，生长室和存储腔之间传递。

根据客户需求，提供不同型号的热蒸发源、裂解源、电子束蒸发源和气体源。系统可安装RHEED、BFM、RGA等，实现对薄膜生长的原位监控。系统可以搭配MBE束流监测光谱系统，实现可重复性和批量性的自动化生长。费勉仪器提供MBE操作软件，包括生长工艺程序编写、自动生长控制和不间断数据记录三大功能，可以执行生长工艺程序控制挡板运动，源炉温度，衬底温度，衬底旋转速度和方向。控制软件包括温度曲线，真空压力曲线，电源输出功率曲线，各系统间传样等工艺需求功能。

上一篇：MBE-2000 分子束外延系统
下一篇：EVO 25/50 MBE分子束外延系统

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：