DS300 压力式质量流量控制器是针对半导体行业开发的一款适用于半导体装备的气体质量流量控制器。DS300采用基于压力原理的流量传感器技术和高精度压电阀控制技术使产品具有零漂小，精度高，响应速度快，压力不敏感的特点，产品所有与气体接触的表面均为不锈钢金属，金属表面状况符合SEMI标准的要求。

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更新时间：2026-01-13
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DS300 压力式质量流量控制器是针对半导体行业开发的一款适用于半导体装备的气体质量流量控制器。DS300 压力式质量流量控制器采用基于压力原理的流量传感器技术和高精度压电阀控制技术使产品具有零漂小，精度高，响应速度快，压力不敏感的特点，产品所有与气体接触的表面均为不锈钢金属，金属表面状况符合SEMI标准的要求。

•基于 PTS 压力传感技术：PTS（Pressure，Temperature，Space）技术可精准监测气体的压力、温度及空间分布参数，为流量计算与控制提供实时、可靠的数据支撑，减少因参数监测偏差导致的流量控制误差；

•基于 AI 的压力控制技术：通过 AI 算法智能调节压力，可根据工艺中流量的细微变化动态优化控制策略，提升压力与流量的稳定性，避免因工况波动导致的流量异常；

•全金属耐腐蚀技术：不锈钢接触表面能耐受半导体工艺中常见的腐蚀性气体（如*、氯气等）侵蚀，延长设备使用寿命，同时避免金属离子溶出污染气体，保障工艺洁净度；

•高准确度及高可靠性：长期使用中能保持稳定的流量控制精度，减少设备故障频次，降低半导体产线因流量控制器问题导致的停机风险。

•流量规格（氮气）：覆盖多档范围，包括 0～30、50、100、200、300、500 SCCM（标准立方厘米每分钟）及 0～1、2、3、5、10 SLM（标准升每分钟），可适配半导体行业从小流量实验到中大规模生产的不同工艺需求；

•准确度：流量≥10% 满量程（F.S.）时，误差为 ±1% 设定点（S.P.）；流量＜10% 满量程时，误差为 ±1% 满量程，确保高低流量区间均能保持精准控制；

•重复精度：±0.2% 满量程，多次测量结果的偏差极小，保障同一工艺批次内流量的一致性，避免因流量波动影响半导体器件质量；

•响应时间：≤0.5 秒，能快速捕捉流量变化并调整，适配半导体工艺对流量控制时效性的要求，减少工艺过渡阶段的不良品；

•工作压力：0.45MPa，符合半导体装备常规的工作压力范围，无需额外调整压力系统即可集成使用。

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