无掩模光刻机的工作流程来了解下！

无掩模光刻机的核心在于数字化直写，摆脱了对物理掩模版的依赖。其工作流程通常如下：

数字图形生成：计算机将设计好的电路或微纳结构图案转化为数字信号。

图形调制：数字信号被发送至核心调制器件。

以DMD为例：它由数百万个微小的可翻转镜片组成，通过控制每个镜片的翻转角度，来决定光线是否反射到基板上，从而动态形成“数字掩模”。

光学曝光：调制后的光束经过投影光学系统，精准聚焦并曝光在涂有光刻胶的基片表面，完成图形转移。

直写扫描：另一种方式是使用聚焦的激光束或电子束，像笔一样在基板上逐点或逐线扫描曝光。

应用领域:

1.高校科研微纳加工：MEMS传感器、微流控芯片、超材料、光子晶体、生物芯片

2.芯片研发打样：快速流片原型验证，不用先做昂贵掩膜

3.封装、PCB 直接成像 LDI

4.掩模版制作：无掩模直写写铬版

5.柔性电子、光学器件、光栅结构